空氣過濾器凈化技術的發(fā)展歷史
更新時間：2013-09-09 點擊次數(shù)：2152
1、在朝鮮戰(zhàn)爭中，美國發(fā)現(xiàn)多數(shù)的電子儀器失靈，經(jīng)過檢查原來是灰塵的原因，對凈化技術的認識，開始發(fā)展凈化技術。2、1957年原蘇聯(lián)*顆人造衛(wèi)星上天后，美國發(fā)展航天領域，一方面精密機械加工和電子控制儀器的凈化，從月球帶回的巖石，對容器工具的潔凈有嚴格的要求，1961年*個定制凈化車間室的標準。
3、1970年1K的集成電路開始大量生產(chǎn)，凈化技術的發(fā)展，在1969年世界衛(wèi)生組織正式制定了GMP標準。
4、80年代大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，進一步促進了凈化技術的發(fā)展。例如集成電路zui細光刻細條寬度達2～3m。此時美國和日本研制成0.1m級超過濾器。
5、到了90年代，藥品生產(chǎn)的發(fā)展，但隨著經(jīng)濟的變化，這一方面由于超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，使得光刻線條越來越細（已達到0.1～0.2m），另一方面海灣戰(zhàn)爭后，知道電子技術的重要性，可以說凈化技術是電子技術得一大支柱。
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